사진. 부쉬 그룹

부쉬 그룹(Busch Group)의 일원인 파이퍼 베큠+팹 솔루션(Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions)이 부식성 환경에 최적화된 차세대 로터리 베인 진공 펌프 ‘DuoVane C’를 출시했다.

이번 신제품은 ‘DuoVane 12 C’와 ‘DuoVane 22 C’ 두 가지 모델로 구성되며, 각각 12m³/h와 22m³/h의 펌핑 속도를 제공한다. 최종 압력은 4×10⁻³hPa(mbar) 미만 수준으로, 고진공 환경이 요구되는 다양한 산업 공정에 대응할 수 있다.

또한 콤팩트한 설계와 견고한 구조를 유지하면서 단상 및 삼상 모터 옵션을 제공해 글로벌 다양한 산업 환경에서 유연하게 적용할 수 있도록 설계됐다.

DuoVane C의 핵심 경쟁력은 부식성 환경에서의 내구성과 안정성이다. 해당 제품은 고내구성 PEEK 소재 베인을 적용해 화학물질에 대한 저항성을 크게 높였으며, 고순도 불활성 PFPE 오일을 사용하도록 설계돼 화학적 반응으로 인한 장비 열화를 최소화한다.

이러한 설계는 장기적인 안정 운전을 가능하게 하며 유지보수 주기를 연장하는 효과로 이어진다. 특히 스테인리스강 가스 밸러스트 시스템을 통해 응축성 및 부식성이 강한 공정 매체도 안정적으로 처리할 수 있다.

또한 외부 공기 유입과 공정 화학물질의 누설을 방지하는 구조를 적용해 공정 안전성을 강화했다. 다양한 방향으로 설치 가능한 이중 1/8인치 나사 연결부 역시 고객 맞춤형 적용을 지원하는 요소다.

‘DuoVane C’ 안정적인 압력 베이스라인을 유지하도록 설계돼 정밀 공정에서 요구되는 신뢰성을 확보했다. 이는 특히 누설 검사 공정에서 중요한 역할을 한다. 아울러 최적화된 고진공 안전밸브를 통해 장비 정지나 고장 발생 시 빠른 차단이 가능해 진공 펌프 내부 오염을 효과적으로 방지한다.

베큠+팹 솔루션은 이번 제품을 통해 기존 Pascal 및 DuoLine 시리즈를 잇는 차세대 플랫폼을 구축했다. 동사의 관계자는 “DuoVane C는 검증된 기술을 기반으로 성능과 신뢰성을 지속적으로 발전시킨 제품”이라며 “전 세계 다양한 산업에서 안정적인 운영을 지원할 것”이라고 밝혔다.

이번 신제품을 통해 동사는 화학, 반도체, 분석기기 등 고부식성 환경에서 진공 시스템의 안정성과 수명을 동시에 개선하는 솔루션으로, 향후 고신뢰성 공정 장비 시장에서 적용이 확대될 전망이다.