사진. 호리바

반도체 공정용 계측 장비 시장에서 약액 관리 기술 고도화 경쟁이 이어지는 가운데, 호리바 어드밴스드 테크노가 비접촉형 측정 방식과 소형화를 결합한 신제품을 선보였다.

HORIBA 그룹 계열사인 호리바 어드밴스드 테크노는 3월 26일(목) 광섬유식 비접촉형 약액 농도 모니터 ‘CS-900F’를 출시했다고 밝혔다.

‘CS’ 시리즈는 반도체 웨이퍼 세정 및 에칭 공정에서 사용되는 약액의 농도를 측정하는 장비로, 1995년 첫 출시 이후 고객 요구에 맞춰 지속적으로 발전해 왔다. 이번 신제품은 기존 시리즈의 기술력을 기반으로 측정 안정성과 장비 소형화를 동시에 구현한 것이 특징이다.

신제품 CS-900F는 배관에 장착하는 방식으로 약액과 직접 접촉하지 않고 농도를 측정할 수 있어, 약액 누출 및 오염 위험을 줄이는 데 기여한다. 특히 반도체 공정에서 요구되는 고순도 환경 유지에 적합한 솔루션으로 평가된다.

또한 광섬유 케이블을 적용해 분광기를 메인 유닛으로 분리함으로써, 장치 내부에 설치되는 셀 유닛의 부피를 기존 대비 약 60% 줄였다. 이를 통해 장비의 설치 공간을 대폭 절감하면서도 공정 내 장비 배치 효율을 높일 수 있다.

이와 함께 내부 레퍼런스 메커니즘을 탑재해 진동 등 외부 환경 영향을 최소화하고, 높은 측정 정확도를 유지할 수 있도록 설계됐다. 소형화와 안정성이라는 두 가지 요소를 동시에 확보한 것이 핵심 경쟁력이다.

측정 가능한 약액 범위도 확대됐다. CS-900F는 최대 80℃의 고온 약액을 포함해 다양한 화학 용액을 측정할 수 있으며, 파장 영역대를 기존 대비 3배 확대해 대응 가능한 약액 종류를 크게 늘렸다. 이에 따라 SC-1(암모니아-과산화수소 용액), 질산, 인산, 초산 혼합액 등 복잡하고 위험도가 높은 약액도 전처리 없이 직접 측정할 수 있다.

호리바 어드밴스드 테크노는 반도체 제조 공정에서 약액 관리는 웨이퍼 표면 처리 균일성과 수율에 직결되는 핵심 요소라며, 비접촉식 측정 기술을 통해 보다 안전하고 정밀한 공정 운영이 가능할 것으로 기대하고 있다.

이번 제품은 2019년 출시된 비접촉형 약액 농도 모니터 CS-900을 기반으로 개발된 후속 모델로, 반도체 장비의 설치 공간 축소 요구에 대응하기 위해 광섬유 방식을 새롭게 적용했다. 회사 측은 약 30년에 걸쳐 축적된 계측 기술을 바탕으로 반도체 산업의 고도화 요구에 지속 대응해 나갈 방침이다.